现在全球仅有能制作EUV光刻机的厂商，只要荷兰的ASML。 而芯片进入7nm之后，就需要用到EUV光刻机，所以曩昔的这几年，台积电、三星、intel等厂商，都是想方设法从ASML那抢购EUV光刻机

  台积电2nm芯片发动，学习三星，扔掉老掉牙的FinFET，选用GAAFET

  在芯片工艺中，有一个中心目标，叫做“线宽”。 什么叫线宽？指的是芯片的最小电路蚀刻宽度，线宽越窄，单位面积所能刻蚀的晶体管数量就越多，功能也就越强。 但线宽不或许无限缩小，因为电路要正常通电，至少也要维持着几十上百个原子的宽度，不或许继续的，无限的缩小的

  不论咱们供认不供认，现在在先进工艺上，我国大陆较世界抢先水平仍是有必定距离的，比方台积电、三星进入了3nm，而咱们呢？明面上只要14nm，暗地里，就不清楚了。 一起从产能上，就算咱们有7nm工艺，其产能也是十分少的，不然Mate60系列，现在都无法敞开供应，首要是因为麒麟9000S产能不行啊

  快科技1月2日音讯，台积电宣告，坐落日本的第一家晶圆厂将于2月24日正式倒闭，下半年正式投产。 台积电日本晶圆厂坐落熊本县邻近，将出产N28 28nm级工艺芯片，这是日本现在最先进的半导体工艺。 22ULP工艺也会在这儿出产，但留意它不是22nm，而是28nm的一个变种，专用于超低功耗设备

  14GB/s读取 国产闪存大发威风！忆恒创源PBlaze7 7946 6.4TB评测：企业级PCIe 5.0 SSD标杆

  一、前语：面向高功能事务使用的国产企业级PCIe 5.0 SSD 忆恒创源（Memblaze）是国内一家十分有名的企业级PCIe SSD厂商，因其品牌标识的原因，许多玩家也亲热的称之为“小海豚”，深受不少发烧友的喜欢

  众所周知，现在的芯片工艺均是光刻工艺，即经过光学--化学反应原理，用光线将电路图传递到涂了光刻胶硅晶圆上，构成有用的电路图形。 而芯片十分小，电路图很杂乱，一颗芯片乃至几十层电路路，而用晶体管密度来看，现在的3nm工艺下，每一平方毫米，更是达到了近2亿个晶体管，所以光刻工艺很杂乱和精密

  众所周知， 当时芯片制作技能最强的企业，有必要是台积电，现已搞定了3nm，全球最抢先，苹果的A17 Pro、M3均是3nm工艺的芯片。 尽管三星也搞定了3nm，好像与台积电技能共同，但现在三星的3nm还没有客户，连自己的Exynos2400芯片都不必，就可以猜测出三星的3nm是个什么水平了

  5nm、7nm弯道超车别想！佳能纳米压印“光刻机”无法出口我国 美国封杀

  快科技11月9日音讯，据外国媒体报道称，佳能CEO Fujio Mitarai泄漏，公司的新纳米压印技能将为小型半导体制作商出产先进芯片拓荒一条路途，但不会卖给我国厂商。 因为该设备能用于制作5nm顶级制程芯片，且不是根据光学技能，引起了我国厂商的爱好，但或许没办法完成